Substance 3D Painter 12.0 在图层堆栈中直接提供纹理扁平化功能,引入了新的自动扭曲投影模式,重新设计了后处理效果集,并改进了项目创建和设置工作流程。
核心新功能
1. 图层展平功能(Flatten Layers)
Substance 3D Painter 12.0现在支持直接在图层堆栈中进行纹理展平操作,提供了全新的工作流程来合并和导出材质图层。
在图层堆栈中直接展平
- 通过右键上下文菜单,可以快速合并多个图层
- 快捷键操作:先分组(Ctrl/Cmd + G),然后创建展平副本(Ctrl/Cmd + M)
- 源组会自动禁用,用户可以选择删除它或将其保存为智能材质供后续编辑
- 原始图层保持完整,直到决定移除或恢复
展平并导出纹理到磁盘
- 右键菜单中的专用导出操作可烘焙图层、蒙版或组的展平结果
- 直接保存到磁盘,无需通过完整的纹理导出流程
- 非常适合将烘焙内容快速传输到其他应用程序
批量操作
- 可同时选择多个图层、组或蒙版
- 在单个操作中单独展平或导出
- 大大提高了处理大型图层堆栈的效率
2. 几何体扭曲投影(Warp to Geometry)
贴花现在可以自动适应复杂曲面,大大减少手动调整的需求。
上下文工具栏新增参数
- 在Warp投影模式激活时,上下文工具栏中会出现新的”Warp to geometry”开关
- 可随时关闭,无需重置当前投影设置
自动贴合网格表面
- 启用后,扭曲投影会自动跟随底层网格的曲率和拓扑结构
- 在表面上拖动投影时,会平滑地贴合几何体
- 显著减少在复杂或弯曲形状上放置贴花时所需的手动微调
保留局部变形
- 编辑扭曲投影网格顶点时,几何体扭曲模式会尝试保留预定义的变形
- 确保始终投影相同的形状
3. 全新后期处理效果(Post Effects)
Painter内部渲染现在可以通过显示设置窗口中的全新后期处理效果进行增强。
新的后期处理效果
- 所有后期处理效果都可以从显示设置窗口中单独启用和配置
- 效果按堆栈顺序应用
- 每个效果都可以独立开关,便于组合和实验不同效果
完整效果列表:
- 景深(Depth of Field)
- 模糊焦点范围外的对象,模拟相机镜头对焦效果
- 泛光(Bloom)
- 从图像明亮区域添加柔和的发光效果
- 眩光(Glare)
- 在光源周围创建光线条纹
- 镜头光晕(Lens Flare)
- 模拟强光照射相机时镜头的光学反射
- 横向色差(Lateral Aberration)
- 模拟镜头缺陷导致图像边缘的色差条纹
- 暗角(Vignette)
- 加暗框架的角落和边缘,将焦点引向中心
- 锐化(Sharpen)
- 增加边缘对比度,使渲染图像看起来更清晰
- 胶片颗粒(Film Grain)
- 叠加细微噪点,复制模拟胶片的纹理
- 色调映射(Tone Mapping)
- 将HDR亮度值重新映射到可显示范围,获得更电影化的外观
- 颜色校正(Color Correction)
- 调整对比度、饱和度、亮度和色温,微调整体色彩平衡
4. 改进的新建项目和设置窗口
新的项目窗口和项目设置对话框已重新设计,以更易于导航。参数已重新排序和分组,以提高可读性,并且网格重新导入工作流程已得到改进,以减少在迭代项目时重复的步骤。
其他改进
技术更新
- 更新USD库到版本25.05
- 更新Substance Engine到版本9.3.4
- AMD GPU最低驱动要求提升至25.3.1/25.Q2
- 更新Qt到6.8.6
- 更新JavaScript API到版本1.1.20
- 更新Python到3.13
新增功能
- 允许打开 *.geo.usd 文件
- 改进项目配置UI
- 集成默认后期效果资产到库中
- 改进对集成GPU和统一/共享内存的支持
- 更好的视频内存检测,提升性能和减少图形问题
Bug修复
- 修复在蒙版中更改材质通道输出可能导致崩溃的问题
- 修复导入USD文件时EXR纹理被强制转换为sRGB而非线性空间的问题
- 修复单个图像的图像序列也填充其他UV贴片的问题
- 修复CPU和GPU烘焙AO结果不同的问题
- 修复macOS上视口基础颜色与颜色选择器不匹配的问题
- 修复USD在某些情况下不导入统一值的问题
总结
Substance 3D Painter 12.0是一次重要的版本更新,主要带来了四大核心功能:
- 图层展平 – 简化纹理导出和材质管理
- 几何体扭曲投影 – 改进复杂表面上的贴花工作流程
- 全新后期效果 – 增强视口预览能力
- 改进的项目创建界面 – 提升整体工作效率
这些更新显著改善了用户在游戏开发、动画、动态图形和VFX项目中的纹理绘制工作流程,特别是在与其他DCC应用程序的协作方面更加便捷。